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花王株式会社香料開発研究所はわきが臭の解明を目的に研究を進めていた結果、わきが臭の発生メカニズムを解明など研究成果を発表したそうです。
(1)ワキガ臭を最も特徴付ける硫黄臭(生臭く鼻をつくニオイ)の発生メカニズムについて、硫黄臭も他のニオイと同様、臭気物質はアミノ酸と結合した状態(無臭)で汗腺から分泌され、 これが皮膚の細菌によって分解されてニオイが発生することが明らかになりました。これによりワキガ臭の発生メカニズムの全体像が明らかになりました。
(2)ワキガ臭を引き起こす汗腺分泌物を正確に測定する技術を開発し、メンタルストレスによってワキの下の分泌物が増えてワキガ臭が強まることを、定量的に確認しました。
この研究発表ではわきが臭は主に3種類のニオイ(硫黄臭、スパイシー臭、脂肪酸臭)で構成されているとされてます。
またわきが臭の発生メカニズムに関する従来の研究内容は以下の通りです。
■硫黄臭(生臭く鼻をつくニオイ)
臭気物質は「3−メチル−3−スルファニルヘキサン−1−オール」(2003年、花王より報告)。
汗腺からの分泌物や臭気物質の発生メカニズムについては不明。
■スパイシー臭(カレーのスパイスのようなニオイ)
臭気物質は「3−ヒドロキシ−3−メチルヘキサン酸」(2002年、花王より報告)。
臭気物質とアミノ酸の一種「グルタミン」が結合した汗腺分泌物が、皮膚の細菌によって分解されて発生(2003年、スイス・ジボダン社より報告)。
■脂肪酸臭(古い雑巾のようなニオイ)
臭気物質は「3−メチル−2−ヘキセン酸」(1991年、米国・モネル研究所より報告)。
臭気物質とアミノ酸の一種「グルタミン」が結合した汗腺分泌物が、皮膚の細菌によって分解されて発生(2003年、スイス・ジボダン社より報告)。
従来の研究結果と今回のわきが臭の分泌物の定量法を開発したことにより、わきが臭が発生する可能性を推測することができるようになったそうです。
また、ストレスがわきがに良くないのも注目すべきことですね。
そしてこの研究結果はデオドラント商品の開発に応用していくそうです。
わきが臭のもとであるものの発生メカニズムがわかれば、その臭いを消すためのデオドラント商品も開発できるということでしょうが、 わきが臭の根治がいまだに汗腺を取り除く手術しかないということは、完全にわきが臭を消すような商品ができるのはまだまだ先かも知れません。
ですが、こういったわきが臭発生メカニズムがわかって、それに対処できる商品がどんどん開発されるといいですね。